光敏涂料分散機(jī)的特點(diǎn)： ①定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。 ②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。 ③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

SGN高效氫氧化鋁高剪切研磨分散機(jī)研磨分散機(jī)是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

醫(yī)藥混懸液分散機(jī)，獸藥分散機(jī)，獸藥疫苗乳化機(jī)，獸藥均質(zhì)機(jī)，獸藥研磨機(jī)，獸藥是指用于預(yù)防、治療、診斷動物疾病或者有目的地調(diào)節(jié)動物機(jī)能的物質(zhì)，主要包括：血清制品、疫苗、診斷制品、微生態(tài)制品、中獸藥、中成藥、化學(xué)藥品、、生化藥品、放射性藥品及外用殺蟲劑、消毒劑等

草莓醬分散機(jī)產(chǎn)品與傳統(tǒng)的設(shè)備對比 ⑴傳統(tǒng)設(shè)備需要8小時(shí)的分散過程，GRS2000設(shè)備1小時(shí)就可以完成，更加高效、節(jié)能。 ⑵傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn)，帶有分散功能的每分鐘轉(zhuǎn)速也在1500轉(zhuǎn)之內(nèi)，而GRS2000系列每分鐘轉(zhuǎn)速可達(dá)到5000-6000轉(zhuǎn)，更加快速。超高的線速度產(chǎn)生的剪切力，使物料瞬間細(xì)化分散，從而獲得更高品質(zhì)的產(chǎn)品。

GMD2000系列乳膠漆涂料分散機(jī)是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)分散機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過分散機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8F等五種乳化頭供客戶選擇）

布洛芬混懸液分散機(jī)，高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是Z重要的。根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求，上海思峻在GR2000的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRS2000系列。其剪切速率可以超過10000rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒徑分布就更窄。

三級納米高速分散機(jī)是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相（液體、固體）進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相（通常液體）的過程的設(shè)備的設(shè)備。當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度達(dá)到微米數(shù)量級時(shí)，甚至納米級時(shí)，體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時(shí)，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來的強(qiáng)勁動能，使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切

管線式乳膠漆分散機(jī)：正常國產(chǎn)分散機(jī)的轉(zhuǎn)速為3000rpm，而我們SGN通過底座下面的皮帶輪對設(shè)備進(jìn)行了1:3的增速，使速度Z高可達(dá)9000rpm，正常的國產(chǎn)分散機(jī)定轉(zhuǎn)子一般是304不銹鋼的，而我們SGN常規(guī)設(shè)備采用了316L不銹鋼的，如果客戶物料有特殊要求我們可以提供碳化鎢鈷、氧化鋯、陶瓷、哈氏合金等材料加工成的定轉(zhuǎn)子，以確保達(dá)到客戶的使用要求。