頭孢噻呋高剪切研磨分散機價格,一般采用研磨混合法研制頭孢噻呋混懸液,并一般采用高品質的研磨混合設備,因為混懸液的粒徑會影響產(chǎn)品的穩(wěn)定性以及藥性。采用GMSD2000系列研磨分散機進行頭孢噻呋混懸液的研磨混合分散,一般粒徑可達DN90≤5μm,產(chǎn)品均勻度更高。并且GMSD2000系列更環(huán)節(jié)都帶有夾套,處理過程中可對物料進行溫度控制;清洗方便,符合在線清洗和滅菌。
查看詳細介紹牙膏二氧化硅研磨乳化機設備結構與特性分析: GRS2000,即在線式超高速高剪切乳化分散機,基本結構包括驅動馬達、GRS2000模塊的分散頭和冷卻罐構。驅動馬達采用無級變速三相異步電機來帶動皮帶工作,對混合分散速度能實現(xiàn)更好的操作控制,轉子線速度達到40m/s,具有良好的剪切力。
查看詳細介紹有很多應用中,200-600目的顆粒度是不夠的,需要達到1-2微米甚至更小,常用的研磨設備以及研磨方式已經(jīng)難以滿足此技術要求。SGN在傳統(tǒng)膠體磨與均質機的基礎上,研發(fā)出了二者相結合的硬脂酸鋅乳液超微研磨機,其磨頭結構采用錯齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,定轉子部分間隙理論上能夠實現(xiàn)無限接近。
查看詳細介紹臭豆腐高剪切研磨分散機具備以下特點: 1)線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力非常強烈,通常所說的超細濕磨 2)定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。 3)定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離 4)在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 5)高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
查看詳細介紹無機材料納米級濕法研磨設備的特點 1更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設計理念,將的技術與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設備結構設計中,為設備穩(wěn)定運行提供了保證. 2 新結構 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.
查看詳細介紹GMSD2000系列高品相鎳粉高剪切研磨分散設備是SGN公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換。
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